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陶氏反滲透膜污染分析及物理清洗方法

2015-10-15



陶氏反滲透膜污染分析及物理清洗方法


          陶氏反滲透膜經過一段時間的使用后,會出現不同程度的污染,對于這些污染應及時徹底的進行清洗,從而維持系統的正常有效運行。

陶氏反滲透膜污染原因分析

          碳酸鈣是一種常見的結垢物質,也是原水中含量最多的物質。因此對于碳酸鈣的去除或預防是十分重要的。同時硫酸鹽垢也會在膜表面沉積,造成膜元件損傷。金屬氧化物垢會導致裝置管路、容器等腐蝕。膠體是水中懸浮的無機物或有機和無機結合的顆粒,膠體很難沉淀。微生物是由各種真菌、霉菌等組成的,微生物極難去除,尤其是給水通道被徹底堵塞時。以上幾種物質是污染膜產品的常見物質。定期檢查膜污染程度,選擇合適清洗方案,可延長膜的使用壽命。

陶氏反滲透膜.jpg

陶氏反滲透膜

陶氏反滲透膜物理清洗方法

           目前最常見最簡單的物理清洗方法,是通過水低壓高流速透過膜從而進行三十分鐘的沖洗,這種方法適合一些使用時間短且污染不是很嚴重的膜產品。同時還可以采用空氣和水的混合流體對膜進行十五分鐘的低壓沖洗,這種清洗方式可以較大程度的恢復膜的使用性能。

通過以上的詳細介紹可以看出,陶氏反滲透膜在污染不是很嚴重的情況下可以采用物理方法進行清洗,但若是膜的污染較為嚴重或是使用的時間過長時,建議采用化學方法進行清洗,這樣才能完全恢復膜的使用性能。



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